El manto de silicona para la base del microscopio RF4 RF-PO2 ofrece una protección resistente a altas temperaturas, garantizando durabilidad y seguridad durante su uso. Su diseño especializado asegura un ajuste perfecto, protegiendo la base del microscopio contra daños térmicos y facilitando un entorno de trabajo más seguro y eficiente. Ideal para aplicaciones que requieren estabilidad térmica y resistencia en equipos de precisión.
